實(shí)驗室高真空箱   VCD高真空箱性能

VCD高真空箱是一種用于實(shí)現高真空環(huán)境的設備，常用于科研實(shí)驗、材料處理、電子元件制造等領(lǐng)域。它具有以下性能特點(diǎn)：1. 高真空度：VCD高真空箱能夠提供非常高的真空度，通?？蛇_到10^-6或更高的級別。這種高真空環(huán)境能夠有效去除氣體和雜質(zhì)，為實(shí)驗或處理提供干凈的環(huán)境。

2. 密封：VCD高真空箱具有良好的密封性能，能夠有效防止氣體泄漏和雜質(zhì)進(jìn)入。它通常采用優(yōu)質(zhì)的密封材料和設計，確保箱體的密封性能。

3. 穩定性和均勻性：VCD高真空箱具有較好的溫度和壓力穩定性，能夠在設定的高真空條件下保持穩定狀態(tài)。同時(shí)，它還能夠提供均勻的高真空環(huán)境，確保樣品或處理物體在整個(gè)空間內獲得一致的處理效果。

4. 控制系統：VCD高真空箱配備先進(jìn)的控制系統，能夠實(shí)現對真空度、溫度、壓力等參數的精確控制和調節。操作人員可以根據實(shí)際需求設置合適的參數，以實(shí)現所需的處理效果。

5. 安全性：VCD高真空箱通常具有多重安全保護裝置，如過(guò)壓保護、過(guò)溫保護、漏電保護等，確保設備和操作人員的安全。

需要注意的是，使用VCD高真空箱時(shí)，應嚴格按照操作規程進(jìn)行操作，并定期進(jìn)行設備維護和保養，以確保設備的正常運行和安全性。

一、簡(jiǎn)介：VCD高真空箱主要應用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設備成功經(jīng)驗，通過(guò)不斷潛心研究，突破傳統技術(shù)創(chuàng )造性解決了精密高真空設備的控制難點(diǎn)，能精準控制133Pa以下的真空度。

二、主要技術(shù)指標：

規格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結構： 一體式結構（內置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源： AC 單相 三線(xiàn) 220V 50HZ或AC 三相 五線(xiàn) 380V 50HZ

選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另購（可用戶(hù)自備）

VCD高真空箱具有許多好處和優(yōu)勢，以下是其中幾個(gè)主要的：1. 提供高品質(zhì)的研究環(huán)境：VCD高真空箱能夠提供非常高的真空度，可以有效去除氣體和雜質(zhì)，為科研實(shí)驗提供干凈的環(huán)境。高真空環(huán)境能夠減少或消除外界因素對實(shí)驗的干擾，提高實(shí)驗的準確性和重復性。

2. 保護材料和樣品：高真空環(huán)境可以有效防止材料的氧化、腐蝕和污染，保護樣品的完整性和質(zhì)量。它也可以防止外界濕度和氣體對材料的影響，延長(cháng)材料的壽命。

3. 實(shí)現特殊處理：VCD高真空箱具有穩定的溫度和壓力控制系統，可以實(shí)現對材料的特殊處理，如高溫處理、熱處理、薄膜沉積等。這些處理可以改變材料的物理和化學(xué)性質(zhì)，從而獲得特殊的性能和特性。

4. 廣泛的應用領(lǐng)域：VCD高真空箱在科學(xué)研究、材料科學(xué)、電子元件制造、光學(xué)器件制造等領(lǐng)域有著(zhù)廣泛的應用。它可以用于研究新材料的性質(zhì)和應用、制備薄膜和納米結構、進(jìn)行表面處理和清洗等。

5. 安全和可靠：VCD高真空箱通常具有多重安全保護裝置，如過(guò)壓保護、過(guò)溫保護、漏電保護等，確保設備和操作人員的安全。它也具有穩定的性能和可靠的操作系統，能夠長(cháng)時(shí)間穩定運行。

總的來(lái)說(shuō)，VCD高真空箱能夠提供高真空環(huán)境，為科研實(shí)驗和材料處理提供良好的條件，具有廣泛的應用領(lǐng)域和許多好處。