HE- WDN2-216真空充氮烤箱
一、用途簡(jiǎn)介:
真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線(xiàn)路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無(wú)氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產(chǎn)品氧化。深受生產(chǎn)線(xiàn)、實(shí)驗(yàn)室及科研單位喜愛(ài)。
二、主要技術(shù)指標(biāo):
規(guī)格型號(hào): HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內(nèi)箱尺寸(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源: AC 單相 三線(xiàn) 220V 50HZ AC 三相 五線(xiàn) 380V 50HZ
溫度偏差: ±3% ±5% ±8%
真空泵: 4升 8升
溫度范圍(選擇):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空度范圍: 0~-100KPa
控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)
內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì): SECC鋼板高級(jí)烤漆處理
充氮?dú)庋b置: 1)氮?dú)鈮毫Ψ秶?/span>3~4Kg左右;
2)流量計(jì):量程為10L/min-100Lmin;
3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;
4)充氮控制方式:采用時(shí)間自動(dòng)控制或手動(dòng)控制;
5)排氣閥:充氮?dú)獾耐瑫r(shí)打開(kāi)排氣閥,防止箱內(nèi)高壓;
6)氮?dú)猓旱獨(dú)庠从脩?hù)自備。