硅晶片真空高溫烤箱 真空烘箱
更新時(shí)間:2023-02-01
硅晶片真空高溫烤箱,也稱(chēng)為真空高溫烤箱,真空烤箱,高溫真空烘箱,真空干燥箱,真空烘箱,精密真空烤箱,實(shí)驗室真空干燥箱。
- 上一個(gè):實(shí)驗室真空干燥箱
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一、硅晶片真空高溫烤箱技術(shù)參數:
型號:HE-ZK-300/400/500/600/800/1000
內箱尺寸(寬*高*深):300X300X300、400X400X400、500X500X500、600X600X600、800X800X800、1000X1000X1000(MM)
外形尺寸(寬*高*深):600X470X710、700X570X810、800X670X910、900X870X1010、1100X1070X1210、1200X1270X1410(MM)
隔層:箱內分為二層,配不銹鋼網(wǎng)板二個(gè),可活動(dòng)抽出;
門(mén)上有玻璃視窗:鋼化玻璃(無(wú)照明)
內材質(zhì)為:304#不銹鋼工業(yè)板,加強處理,抽真空不變形;
外材質(zhì)為:冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理;
保溫材質(zhì)為:耐高溫巖棉,保溫效果好;
密封材質(zhì)為:耐高溫硅膠條;
使用電源:AC 單相 三線(xiàn) 220V 50HZ
二、硅晶片真空高溫烤箱控溫系統
1) 溫度范圍:室溫~200℃
2) 升溫速率:RT~100℃(約15~20分鐘)
3) 顯示精度:0.1℃
4) 箱內溫度均勻度:±5℃
5) 加熱體:為耐高溫發(fā)熱管
6) 加熱技術(shù):采用三面加熱的熱輻射的方式
三、真空系統
1.真空度范圍:0.1Kpa~101Kpa(常壓為101PKa,真空表為負壓表即顯示相對值壓力)
2.真空表顯示精度:0.1KPa
3.漏氣率:≤500Pa/小時(shí)
4.解壓方式:直接充入環(huán)境空氣
5.真空泵:1臺(XD-40)
四、設備結構
1.內箱采用SUS304#不銹鋼材料,外殼采用冷軋鋼板制造,表面靜電噴塑;
2.本機箱門(mén)松緊可由客戶(hù)任意調節,整體成形的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內高真空度;
3.控制面板采用微電腦智能PID控制,具有定時(shí)和超溫報警功能;
4.箱門(mén)采用鋼化、防爆雙層玻璃門(mén),使觀(guān)察工作室培養物品一目了然。
五、保護系統
A.超溫保護系統:機臺在整機的供電輸入處,加裝了超溫保護系統及功率過(guò)大時(shí)自動(dòng)熔斷保險絲系統;
B.高溫保護系統:當由于外力原因導致溫度失控時(shí),本系統會(huì )在超過(guò)設定溫度10度時(shí)自動(dòng)停止加熱供電,從而保護你的產(chǎn)品及機器的安全;
C.過(guò)流保護系統:當由于外加電壓過(guò)高或其它原因導致整機的功率超出正常功率時(shí),本系統會(huì )自動(dòng)斷電保護整機的工控組件不被損壞。